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永磁式平面磁控溅射靶
所属类别:[行业新闻] 新闻时间:[2019-06-20] 作者:[昊兴科技]

 

专利号: 01255955       专利人:张兴全
     永磁式平面磁控溅射靶,包括永磁体,在永磁体的上端面装有导磁极帽,导磁极帽的横截面形状可以为矩形、梯形、楔形、三角形、锥形、半圆形或其它形状,在永磁体的下端面装有导磁调整垫,导磁调整垫固定在极靴上,极靴通过升降调节螺杆支撑在磁控靶体上,外圈永磁体的外侧面上封装有短路磁极。本实用新型提供了一种能使空间磁场均匀,,提高镀膜质量,靶材利用率可达60%,磁性调整范围大,能消除杂散磁场,在非使用区不产生电弧的永磁式平面磁控溅射靶。联系电话:13823228656